ELIMINATION OF RANDOM COMPOSITIONAL INHOMOGENEITIES IN CZOCHRALSKI GROWN SILICON

被引:8
作者
MURGAI, A [1 ]
WITT, AF [1 ]
GATOS, HC [1 ]
机构
[1] MIT,DEPT MAT SCI & ENGN,CAMBRIDGE,MA 02139
关键词
D O I
10.1149/1.2134443
中图分类号
O646 [电化学、电解、磁化学];
学科分类号
081704 ;
摘要
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页码:1276 / 1277
页数:2
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