IMPROVEMENT IN THE ADHESION OF THIN-FILMS TO SEMICONDUCTORS AND OXIDES USING ELECTRON AND PHOTON IRRADIATION

被引：14

作者：

GAZECKI, J ^{[1
]}

SAIHALASZ, GA ^{[1
]}

ELLIMAN, RG ^{[1
]}

KELLOCK, A ^{[1
]}

NYBERG, GL ^{[1
]}

WILLIAMS, JS ^{[1
]}

机构：

[1] LA TROBE UNIV, DEPT PHYS CHEM, BUNDOORA, VIC 3083, AUSTRALIA

来源：

APPLICATIONS OF SURFACE SCIENCE | 1985年 / 22-3卷 / MAY期

关键词：

D O I：

10.1016/0378-5963(85)90238-7

中图分类号：

学科分类号：

摘要：

引用

页码：1034 / 1041

页数：8