EPR EVIDENCE FOR A POSITIVELY CHARGED VACANCY-OXYGEN DEFECT IN SILICON

被引:6
作者
BROSIOUS, PR [1 ]
机构
[1] IBM CORP, THOMAS J WATSON RES CTR,YORKTOWN HTS,NY 10598
关键词
D O I
10.1063/1.89040
中图分类号
O59 [应用物理学];
学科分类号
摘要
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页数:3
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