We report on a pyrosol deposition process used for depositing on large-area (up to 100 cm long and 30 cm wide) soda-lime glass substrates of varying thicknesses (between 0.3 and 6 mm). Fluorine-doped tin oxide (SnO2:F) films were deposited on glass coated with a diffusion barrier of Al2O3. The film deposition was homogeneous and film properties were similar to those reported for films deposited by chemical vapour deposition. A minimum resistivity of 5 x 10(-4) Omega cm, carrier mobility of 20 cm(2) V(-1)s(-1) and optical transmission >80% for typical SnO2:F films 3000 Angstrom thick were achieved. Micrographs obtained by scanning electron microscopy of some typical films presented here demonstrate fairly good crystalline structure.
机构:Groupe d' Etudes des Matériaux, Composants et Systèmes, Centre d'Etudes d'Electronique des Solides, associé au Centre National de la Recherche Scientifique, Université des Sciences et Techniques du Languedoc, 34060 Montpellier Cédex France
POMMIER, R
GRIL, C
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机构:Groupe d' Etudes des Matériaux, Composants et Systèmes, Centre d'Etudes d'Electronique des Solides, associé au Centre National de la Recherche Scientifique, Université des Sciences et Techniques du Languedoc, 34060 Montpellier Cédex France
GRIL, C
MARUCCHI, J
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机构:Groupe d' Etudes des Matériaux, Composants et Systèmes, Centre d'Etudes d'Electronique des Solides, associé au Centre National de la Recherche Scientifique, Université des Sciences et Techniques du Languedoc, 34060 Montpellier Cédex France
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POMMIER, R
GRIL, C
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GRIL, C
MARUCCHI, J
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