MASKLESS LASER WRITING OF SILICON DIOXIDE

被引：8

作者：

KRCHNAVEK, RR

GILGEN, HH

OSGOOD, RM

机构：

[1] Columbia Univ, Dep of Electrical, Engineering, New York, NY, USA, Columbia Univ, Dep of Electrical Engineering, New York, NY, USA

来源：

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B | 1984年 / 2卷 / 04期

关键词：

D O I：

10.1116/1.582855

中图分类号：

TM [电工技术]; TN [电子技术、通信技术];

学科分类号：

0808 ; 0809 ;

摘要：

引用

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