CHEMICALLY VAPOR-DEPOSITED TI3SIC2

被引：282

作者：

GOTO, T

HIRAI, T

机构：

来源：

关键词：

D O I：

10.1016/0025-5408(87)90128-0

中图分类号：

T [工业技术];

学科分类号：

08 ;

摘要：

引用

页码：1195 / 1201

页数：7

共 7 条

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