X-RAY AND ELECTRON-MICROSCOPY STUDIES OF ARSENIUM IMPLANTED SILICON-CRYSTALS AFTER A PULSED LASER ANNEALING

被引：3

作者：

BRYZA, B

AULEYTNER, J

BARTSCH, H

WIETESKA, K

机构：

[1] POLISH ACAD SCI,INST PHYS,AL LOTNIKOW 32 46,PL-02668 WARSAW,POLAND

[2] AKAD WISSENSCH DDR,INST FESTKORPERPHYS & ELEKTRONENMIKROSKOPIE,DDR-4020 HALLE,GER DEM REP

[3] INST NUCL RES,PL-05400 SWIERK,POLAND

来源：

关键词：

D O I：

10.1002/crat.2170180207

中图分类号：

O7 [晶体学];

学科分类号：

0702 ; 070205 ; 0703 ; 080501 ;

摘要：

引用

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