SOLVENT PENETRATION AND PHOTORESIST DISSOLUTION - A FLUORESCENCE QUENCHING AND INTERFEROMETRY STUDY

被引：41

作者：

LIMM, W

STANTON, D

DIMNIK, GP

WINNIK, MA

SMITH, BA

机构：

[1] IBM CORP,DIV RES,ALMADEN RES CTR,SAN JOSE,CA 95120

[2] UNIV TORONTO,ERINDALE COLL,TORONTO M5S 1A1,ONTARIO,CANADA

来源：

关键词：

D O I：

10.1002/app.1988.070350811

中图分类号：

O63 [高分子化学（高聚物）];

学科分类号：

070305 ; 080501 ; 081704 ;

摘要：

引用

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页数：18