ION REFLECTION AND ANGULAR SPUTTER YIELD PEAK POSITION

被引：6

作者：

WITCOMB, MJ ^{[1
]}

机构：

[1] UNIV WITWATERSRAND,ELECT MICROSCOPE UNIT,JOHANNESBURG 2001,SOUTH AFRICA

来源：

RADIATION EFFECTS AND DEFECTS IN SOLIDS | 1977年 / 32卷 / 3-4期

关键词：

D O I：

10.1080/00337577708233076

中图分类号：

TL [原子能技术]; O571 [原子核物理学];

学科分类号：

0827 ; 082701 ;

摘要：

引用

页码：205 / 211

页数：7

共 38 条

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