SCREENING OF LONG-WAVELENGTH LASER AT HIGH-TEMPERATURE AND HIGH-CURRENT LEVELS

被引：4

作者：

HIGUCHI, H

OOMURA, E

HIRANO, R

SAKAKIBARA, Y

NAMIZAKI, H

SUSAKI, W

FUJIKAWA, K

机构：

来源：

关键词：

D O I：

10.1049/el:19830663

中图分类号：

TM [电工技术]; TN [电子技术、通信技术];

学科分类号：

0808 ; 0809 ;

摘要：

引用

页码：976 / 977

页数：2

共 4 条

HIRANO, R ;

OOMURA, E ;

HIGUCHI, H ;

SAKAKIBARA, Y ;

NAMIZAKI, H ;

SUSAKI, W ;

FUJIKAWA, K .

[2]

HIRANO R, 1983, JPN J APPL PHYS S22, V22, P231

[3]

MIZUISHI K, 1983, 4TH INT C INT OPT OP

OOMURA, E ;

HIGUCHI, H ;

HIRANO, R ;

SAKAKIBARA, Y ;

NAMIZAKI, H ;

SUSAKI, W .