THE MECHANISM AND KINETICS OF THE OXIDATION OF CR(100) SINGLE-CRYSTAL SURFACES STUDIED BY REFLECTION HIGH-ENERGY ELECTRON-DIFFRACTION, X-RAY-EMISSION SPECTROSCOPY, AND SECONDARY ION MASS-SPECTROMETRY AUGER SPUTTER DEPTH PROFILING

被引：21

作者：

ARLOW, JS

MITCHELL, DF

GRAHAM, MJ

机构：

来源：

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A-VACUUM SURFACES AND FILMS | 1987年 / 5卷 / 04期

关键词：

D O I：

10.1116/1.574675

中图分类号：

TB3 [工程材料学];

学科分类号：

0805 ; 080502 ;

摘要：

引用

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页数：5