DEVELOPMENT OF STRESS AND SURFACE TEMPERATURE DURING DEPOSITION OF LITHIUM FLUORIDE FILMS

被引：26

作者：

BLACKBURN, H

CAMPBELL, DS

机构：

来源：

PHILOSOPHICAL MAGAZINE | 1963年 / 8卷 / 89期

关键词：

D O I：

10.1080/14786436308213839

中图分类号：

T [工业技术];

学科分类号：

08 ;

摘要：

引用

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