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ENHANCED CARRIER LIFETIME AND DIFFUSION LENGTH IN GAAS BY STRAINED-LAYER MOCVD
被引:19
作者
:
BENEKING, H
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BENEKING, H
NAROZNY, P
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NAROZNY, P
ROENTGEN, P
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ROENTGEN, P
YOSHIDA, M
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YOSHIDA, M
机构
:
来源
:
IEEE ELECTRON DEVICE LETTERS
|
1986年
/ 7卷
/ 02期
关键词
:
D O I
:
10.1109/EDL.1986.26308
中图分类号
:
TM [电工技术];
TN [电子技术、通信技术];
学科分类号
:
0808 ;
0809 ;
摘要
:
引用
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页码:101 / 103
页数:3
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共 12 条
[11]
SZE SM, 1981, PHYSICS SEMICONDUCTO, P95
[12]
EQUILIBRIUM STRUCTURE OF A THIN EPITAXIAL FILM
[J].
VANDERMERWE, JH
论文数:
0
引用数:
0
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VANDERMERWE, JH
.
JOURNAL OF APPLIED PHYSICS,
1970,
41
(11)
:4725
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共 12 条
[11]
SZE SM, 1981, PHYSICS SEMICONDUCTO, P95
[12]
EQUILIBRIUM STRUCTURE OF A THIN EPITAXIAL FILM
[J].
VANDERMERWE, JH
论文数:
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引用数:
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VANDERMERWE, JH
.
JOURNAL OF APPLIED PHYSICS,
1970,
41
(11)
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