MEASUREMENT OF FLEXURE IN SILICON WAFERS BY LANG X-RAY DIFFRACTION TECHNIQUE

被引：3

作者：

JULEFF, EM

机构：

来源：

INTERNATIONAL JOURNAL OF ELECTRONICS | 1965年 / 19卷 / 02期

关键词：

D O I：

10.1080/00207216508937810

中图分类号：

TM [电工技术]; TN [电子技术、通信技术];

学科分类号：

0808 ; 0809 ;

摘要：

引用

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页码：153 / &

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共 2 条

[1]

COMPTON AH, 1949, XRAY THEORY EXPT, P709

[2] THE PROJECTION TOPOGRAPH - A NEW METHOD IN X-RAY DIFFRACTION MICRORADIOGRAPHY [J].

LANG, AR .

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