PLASMA ENHANCED CHEMICAL VAPOR-DEPOSITION SILICON-NITRIDE FOR MICROELECTRONIC APPLICATIONS

被引：8

作者：

GUPTA, M ^{[1
]}

RATHI, VK ^{[1
]}

SINGH, SP ^{[1
]}

AGNIHOTRI, OP ^{[1
]}

CHARI, KS ^{[1
]}

机构：

[1] LOKNAYAK BHAVAN,DEPT ELECTR,KHAN MKT,NEW DELHI 110003,INDIA

来源：

关键词：

D O I：

10.1016/0040-6090(88)90154-X

中图分类号：

T [工业技术];

学科分类号：

08 ;

摘要：

引用

页码：309 / 312

页数：4

共 8 条

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