PATTERN GENERATION ON WAFERS USING ELECTRON-BEAM EXPOSURE SYSTEM (EBES)

被引：3

作者：

HENDERSON, RC ^{[1
]}

VOSHCHENKOV, AM ^{[1
]}

MAHONEY, GE ^{[1
]}

机构：

[1] BELL TEL LABS INC,MURRAY HILL,NJ 07974

来源：

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY | 1975年 / 12卷 / 06期

关键词：

D O I：

10.1116/1.568512

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

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