REACTIVE ION ETCHING OF COPPER-FILMS

被引：70

作者：

SCHWARTZ, GC

SCHAIBLE, PM

机构：

来源：

关键词：

D O I：

10.1149/1.2120092

中图分类号：

O646 [电化学、电解、磁化学];

学科分类号：

081704 ;

摘要：

引用

页码：1777 / 1779

页数：3

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共 2 条

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