ABSTRACT - ELECTRON EFFECTS IN SPUTTERING

被引:3
作者
CHAPMAN, BN [1 ]
DOWNER, D [1 ]
GUIMARAE.LJ [1 ]
机构
[1] UNIV LONDON,IMPERIAL COLL,LONDON,ENGLAND
来源
JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY | 1974年 / 11卷 / 01期
关键词
D O I
10.1116/1.1318647
中图分类号
O59 [应用物理学];
学科分类号
摘要
引用
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共 3 条
[2]   FOCUSING EFFECTS IN SPUTTER DEPOSITION [J].
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