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EFFECT OF A SUBSTRATE ON THE PHASE-TRANSFORMATIONS OF AMORPHOUS TISI2 THIN-FILMS
被引:50
作者
:
THOMPSON, RD
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0
THOMPSON, RD
TAKAI, H
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TAKAI, H
PSARAS, PA
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PSARAS, PA
TU, KN
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TU, KN
机构
:
来源
:
JOURNAL OF APPLIED PHYSICS
|
1987年
/ 61卷
/ 02期
关键词
:
D O I
:
10.1063/1.338254
中图分类号
:
O59 [应用物理学];
学科分类号
:
摘要
:
引用
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页码:540 / 544
页数:5
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[1]
METASTABLE PHASE FORMATION IN TITANIUM-SILICON THIN-FILMS
BEYERS, R
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BEYERS, R
SINCLAIR, R
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SINCLAIR, R
[J].
JOURNAL OF APPLIED PHYSICS,
1985,
57
(12)
: 5240
-
5245
[2]
Christian J.W., 1965, THEORY TRANSFORMAT 1
[3]
SILICIDE FORMATION IN THIN CO-SPUTTERED (TITANIUM + SILICON) FILMS ON POLYCRYSTALLINE SILICON AND SIO2
MURARKA, SP
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机构:
Bell Laboratories, Murray Hill, NJ 07974, United States
MURARKA, SP
FRASER, DB
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机构:
Bell Laboratories, Murray Hill, NJ 07974, United States
FRASER, DB
[J].
JOURNAL OF APPLIED PHYSICS,
1980,
51
(01)
: 350
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JOURNAL OF APPLIED PHYSICS,
1985,
57
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: 5240
-
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MURARKA, SP
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Bell Laboratories, Murray Hill, NJ 07974, United States
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FRASER, DB
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1980,
51
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