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MICROWAVE-INDUCED PLASMA COUPLED TO A TANTALUM-STRIP VAPORIZATION ASSEMBLY FOR TRACE-ELEMENT ANALYSIS
被引:28
作者
:
FRICKE, FL
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0
机构:
FDA,CINCINNATI,OH 45202
FRICKE, FL
ROSE, O
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机构:
FDA,CINCINNATI,OH 45202
ROSE, O
CARUSO, JA
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机构:
FDA,CINCINNATI,OH 45202
CARUSO, JA
机构
:
[1]
FDA,CINCINNATI,OH 45202
[2]
UNIV CINCINNATI,DEPT CHEM,CINCINNATI,OH 45221
来源
:
TALANTA
|
1976年
/ 23卷
/ 04期
关键词
:
D O I
:
10.1016/0039-9140(76)80200-7
中图分类号
:
O65 [分析化学];
学科分类号
:
070302 ;
081704 ;
摘要
:
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页码:317 / 320
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共 13 条
[11]
CHARACTERISTICS OF LOW WATTAGE MICROWAVE INDUCED ARGON PLASMAS IN METALS EXCITATION
RUNNELS, JH
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RUNNELS, JH
GIBSON, JH
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GIBSON, JH
[J].
ANALYTICAL CHEMISTRY,
1967,
39
(12)
: 1398
-
&
[12]
TAPHORN JE, UNPUBLISHED RESULTS
[13]
TAYLOR HE, 1969, ANAL CHEM, V42, P1569
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共 13 条
[11]
CHARACTERISTICS OF LOW WATTAGE MICROWAVE INDUCED ARGON PLASMAS IN METALS EXCITATION
RUNNELS, JH
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RUNNELS, JH
GIBSON, JH
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GIBSON, JH
[J].
ANALYTICAL CHEMISTRY,
1967,
39
(12)
: 1398
-
&
[12]
TAPHORN JE, UNPUBLISHED RESULTS
[13]
TAYLOR HE, 1969, ANAL CHEM, V42, P1569
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