MICROFABRICATION TECHNIQUE BY GAS PLASMA ETCHING METHOD

被引：11

作者：

KOMIYA, H ^{[1
]}

TOYODA, H ^{[1
]}

KATO, T ^{[1
]}

INABA, K ^{[1
]}

机构：

[1] MITSUBISHI ELECT CORP,CENT RES LAB,AMAGASAKI,HYOGO,JAPAN

来源：

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS | 1976年 / 15卷

关键词：

D O I：

10.7567/JJAPS.15S1.19

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

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页数：6

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共 5 条

[1] NEW UNDERCUTTING PHENOMENON IN PLASMA ETCHING [J].

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