NEW UNDERCUTTING PHENOMENON IN PLASMA ETCHING

被引：16

作者：

ABE, H ^{[1
]}

机构：

[1] MITSUBISHI ELECTR CORP,CENT RES LAB,HYOGO,JAPAN

来源：

关键词：

D O I：

10.1143/JJAP.14.1825

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

页码：1825 / 1826

页数：2

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共 2 条

ABE, H ;

SONOBE, Y ;

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DUDLEY, RH .