INFLUENCES OF DC BIAS ON ALUMINUM FILMS PREPARED WITH A HIGH-RATE MAGNETRON SPUTTERING CATHODE

被引：17

作者：

PARK, YH

ZOLD, FT

SMITH, JF

机构：

来源：

关键词：

D O I：

10.1016/0040-6090(85)90058-6

中图分类号：

T [工业技术];

学科分类号：

08 ;

摘要：

引用

页码：309 / 314

页数：6

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共 6 条

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