MAGNETORESISTANCE ASSOCIATED WITH ANTIFERROMAGNETIC INTERLAYER COUPLING SPACED BY A SEMICONDUCTOR IN FE/SI MULTILAYERS - COMMENT

被引：26

作者：

DENBROEDER, FJA ^{[1
]}

KOHLHEPP, J ^{[1
]}

机构：

[1] EINDHOVEN UNIV TECHNOL,DEPT PHYS,5600 MB EINDHOVEN,NETHERLANDS

来源：

关键词：

D O I：

10.1103/PhysRevLett.75.3026

中图分类号：

O4 [物理学];

学科分类号：

0702 ;

摘要：

引用

页码：3026 / 3026

页数：1

共 5 条

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COCHRAN, JF .

[2]

DENBROEDER FJA, IN PRESS

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JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 2-LETTERS & EXPRESS LETTERS, 1994, 33 (12A) :L1670-L1672

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