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A HIGH-FREQUENCY BIPOLAR JFET I-2L PROCESS
被引:4
作者
:
LUI, SK
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
UNIV CALIF BERKELEY,DEPT ELECT ENGN & COMP SCI,BERKELEY,CA 94720
LUI, SK
MEYER, RG
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
UNIV CALIF BERKELEY,DEPT ELECT ENGN & COMP SCI,BERKELEY,CA 94720
MEYER, RG
机构
:
[1]
UNIV CALIF BERKELEY,DEPT ELECT ENGN & COMP SCI,BERKELEY,CA 94720
[2]
UNIV CALIF BERKELEY,ELECTR RES LAB,BERKELEY,CA 94720
来源
:
IEEE TRANSACTIONS ON ELECTRON DEVICES
|
1982年
/ 29卷
/ 08期
关键词
:
D O I
:
10.1109/T-ED.1982.20874
中图分类号
:
TM [电工技术];
TN [电子技术、通信技术];
学科分类号
:
0808 ;
0809 ;
摘要
:
引用
收藏
页码:1319 / 1323
页数:5
相关论文
共 2 条
[1]
CONTACT METALLURGY FOR SHALLOW JUNCTION SI DEVICES
[J].
KIRCHER, CJ
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
IBM CORP,THOMAS J WATSON RES CTR,YORKTOWN HTS,NY 10598
IBM CORP,THOMAS J WATSON RES CTR,YORKTOWN HTS,NY 10598
KIRCHER, CJ
.
JOURNAL OF APPLIED PHYSICS,
1976,
47
(12)
:5394
-5399
[2]
RUSSELL RW, 1974, IEEE INT SOL STAT CI, P140
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共 2 条
[1]
CONTACT METALLURGY FOR SHALLOW JUNCTION SI DEVICES
[J].
KIRCHER, CJ
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
IBM CORP,THOMAS J WATSON RES CTR,YORKTOWN HTS,NY 10598
IBM CORP,THOMAS J WATSON RES CTR,YORKTOWN HTS,NY 10598
KIRCHER, CJ
.
JOURNAL OF APPLIED PHYSICS,
1976,
47
(12)
:5394
-5399
[2]
RUSSELL RW, 1974, IEEE INT SOL STAT CI, P140
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