QUANTITATIVE DEPTH PROFILING WITH AES - APPLICATION TO OXIDE LAYERS OF NICRFE ALLOYS

被引：10

作者：

STEFFEN, J ^{[1
]}

HOFMANN, S ^{[1
]}

机构：

[1] MAX PLANCK INST MET RES,INST WERKSTOFFWISSENSCH,SEESTR 92,D-7000 STUTTGART 80,FED REP GER

来源：

FRESENIUS ZEITSCHRIFT FUR ANALYTISCHE CHEMIE | 1989年 / 333卷 / 4-5期

关键词：

D O I：

10.1007/BF00572338

中图分类号：

O65 [分析化学];

学科分类号：

070302 ; 081704 ;

摘要：

引用

页码：408 / 409

页数：2

共 6 条

HOFMANN, S .

HOFMANN, S ;

SANZ, JM .

[3]

HOFMANN S, 1988, IN PRESS SURF INTERF

STEFFEN, J ;

HOFMANN, S .

FRESENIUS ZEITSCHRIFT FUR ANALYTISCHE CHEMIE, 1987, 329 (2-3) :250-255

[5] OXIDATION OF NICR AND NICRFE ALLOYS AT ROOM-TEMPERATURE [J].

STEFFEN, J ;

HOFMANN, S .

[6]

STEFFEN J, IN PRESS