DEPOSITION KINETICS OF SIO2 FILM

被引：23

作者：

MAEDA, M

NAKAMURA, H

机构：

来源：

关键词：

D O I：

10.1063/1.328657

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

页码：6651 / 6654

页数：4

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共 7 条

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