ELECTRONICALLY CONTROLLED REACTIONS OF INTERSTITIAL IRON IN SILICON

被引:195
作者
KIMERLING, LC
BENTON, JL
机构
来源
PHYSICA B & C | 1983年 / 116卷 / 1-3期
关键词
D O I
10.1016/0378-4363(83)90263-2
中图分类号
O4 [物理学];
学科分类号
0702 ;
摘要
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页数:4
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