ION-IMPLANTED COMPLEMENTARY IMPATT DIODES FOR D-BAND

被引：5

作者：

LEE, DH ^{[1
]}

YING, RS ^{[1
]}

机构：

[1] HUGHES RES LABS,MALIBU,CA 90265

来源：

关键词：

D O I：

10.1109/PROC.1974.9620

中图分类号：

TM [电工技术]; TN [电子技术、通信技术];

学科分类号：

0808 ; 0809 ;

摘要：

引用

页码：1295 / 1296

页数：2

共 6 条

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