SADDLE FIELD-ION SOURCE OF SPHERICAL CONFIGURATION FOR ETCHING AND THINNING APPLICATIONS

被引：63

作者：

FRANKS, J

GHANDER, AM

机构：

[1] UNIV ASTON,DEPT PHYS,GOSTA GREEN,BIRMINGHAM B4 7ET,ENGLAND

[2] ION TECH LTD,2 PK ST,TEDDINGTON,MIDDLESEX,ENGLAND

来源：

VACUUM | 1974年 / 24卷 / 10期

关键词：

D O I：

10.1016/0042-207X(74)90015-3

中图分类号：

T [工业技术];

学科分类号：

08 ;

摘要：

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页码：489 / 491

页数：3

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共 2 条

[1] IMPROVED FORM OF OSCILLATING ELECTRON ELECTROSTATIC ION-SOURCE FOR ION ETCHING
GHANDER, AM
FITCH, RK
[J]. VACUUM, 1974, 24 (10) : 483 - 487
[2] CHARGED-PARTICLE OSCILLATOR
MCILRAIT.AH
[J]. JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY, 1972, 9 (01): : 209 - &