ALE DEPOSITION OF INDIUM TIN OXIDE THIN-FILMS

被引：3

作者：

ASIKAINEN, T

RITALA, M

LESKELA, M

机构：

[1] Department of Chemistry, University of Helsinki, FIN-00014 Helsinki

来源：

关键词：

D O I：

10.1016/0042-207X(95)00064-X

中图分类号：

T [工业技术];

学科分类号：

08 ;

摘要：

[No abstract available]

引用

页码：887 / 887

页数：1

相关论文

共 4 条

[1] GROWTH OF IN2O3 THIN-FILMS BY ATOMIC LAYER EPITAXY
ASIKAINEN, T
RITALA, M
LESKELA, M
[J]. JOURNAL OF THE ELECTROCHEMICAL SOCIETY, 1994, 141 (11) : 3210 - 3213
[2] TRANSPARENT CONDUCTORS - A STATUS REVIEW
CHOPRA, KL
MAJOR, S
PANDYA, DK
[J]. THIN SOLID FILMS, 1983, 102 (01) : 1 - 46
[3] ATOMIC LAYER EPITAXY
SUNTOLA, T
[J]. THIN SOLID FILMS, 1992, 216 (01) : 84 - 89
[4] Suntola T., 1989, Material Science Reports, V4, P261, DOI 10.1016/S0920-2307(89)80006-4