GROWTH AND PHYSICAL-PROPERTIES OF LPCVD POLYCRYSTALLINE SILICON FILMS

被引：237

作者：

HARBEKE, G ^{[1
]}

KRAUSBAUER, L ^{[1
]}

STEIGMEIER, EF ^{[1
]}

WIDMER, AE ^{[1
]}

KAPPERT, HF ^{[1
]}

NEUGEBAUER, G ^{[1
]}

机构：

[1] UNIV DORTMUND,INST PHYS,D-4600 DORTMUND 50,FED REP GER

来源：

关键词：

D O I：

10.1149/1.2115672

中图分类号：

O646 [电化学、电解、磁化学];

学科分类号：

081704 ;

摘要：

引用

页码：675 / 682

页数：8