RADICAL CATION INTERMEDIATES IN THE FORMATION OF SCHIFF-BASES ON IRRADIATED SEMICONDUCTOR POWDERS

被引：36

作者：

FOX, MA

YOUNATHAN, JN

机构：

来源：

TETRAHEDRON | 1986年 / 42卷 / 22期

关键词：

D O I：

10.1016/S0040-4020(01)88091-1

中图分类号：

O62 [有机化学];

学科分类号：

070303 ; 081704 ;

摘要：

引用

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页码：6285 / 6291

页数：7

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