DELAMINATION AND FRACTURE OF THIN-FILMS

被引：23

作者：

KLOKHOLM, E

机构：

来源：

关键词：

D O I：

10.1147/rd.315.0585

中图分类号：

TP3 [计算技术、计算机技术];

学科分类号：

0812 ;

摘要：

引用

页码：585 / 591

页数：7

共 10 条

[1]

AHN KY, 1965, RC1470 IBM TJ WATS R

[2]

Barenblatt GI., 1962, ADV APPL MECH, V7, P55, DOI DOI 10.1016/S0065-2156(08

[3]

HOFFMAN RW, 1976, NATO ADV STUDY I S B, V14, P273

[4]

Kelly A., 1976, STRONG SOLIDS

[5] INTRINSIC STRESS IN EVAPORATED METAL FILMS [J].

KLOKHOLM, E .

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY, 1969, 6 (01) :138-&

[6]

KLOKHOLM E, 1966, RC1623 IBM TJ WATS R

[7]

KLOKHOLM E, 1968, J ELECTROCHEM SOC, V118, P824

MATTHEWS, JW ;

KLOKHOLM, E .

[9]

MATTHEWS JW, 1973, AIP C P, V10, P276

[10]

PRESCOTT JJ, 1961, APPLIED ELASTICITY, P187