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MAGNETRON SPUTTERING AND LASER PATTERNING OF HIGH TRANSITION-TEMPERATURE CU OXIDE-FILMS
被引:48
作者
:
SCHEUERMANN, M
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SCHEUERMANN, M
CHI, CC
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CHI, CC
TSUEI, CC
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TSUEI, CC
YEE, DS
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YEE, DS
CUOMO, JJ
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CUOMO, JJ
LAIBOWITZ, RB
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LAIBOWITZ, RB
KOCH, RH
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KOCH, RH
BRAREN, B
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BRAREN, B
SRINIVASAN, R
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SRINIVASAN, R
PLECHATY, MM
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PLECHATY, MM
机构
:
来源
:
APPLIED PHYSICS LETTERS
|
1987年
/ 51卷
/ 23期
关键词
:
D O I
:
10.1063/1.98986
中图分类号
:
O59 [应用物理学];
学科分类号
:
摘要
:
引用
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