USE OF ANTIREFLECTIVE COATING IN BILAYER RESIST PROCESS

被引：14

作者：

LIN, YC

JONES, S

FULLER, G

机构：

来源：

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B | 1983年 / 1卷 / 04期

关键词：

D O I：

10.1116/1.582749

中图分类号：

TM [电工技术]; TN [电子技术、通信技术];

学科分类号：

0808 ; 0809 ;

摘要：

引用

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页码：1215 / 1218

页数：4

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共 6 条

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