DOSE ENHANCEMENT EFFECTS IN MOSFET ICS EXPOSED IN TYPICAL CO-60 FACILITIES

被引:23
作者
KELLY, JG [1 ]
LUERA, TF [1 ]
POSEY, LD [1 ]
VEHAR, DW [1 ]
BROWN, DB [1 ]
DOZIER, CM [1 ]
机构
[1] USN,RES LAB,WASHINGTON,DC 20375
关键词
D O I
10.1109/TNS.1983.4333143
中图分类号
TM [电工技术]; TN [电子技术、通信技术];
学科分类号
0808 ; 0809 ;
摘要
引用
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页码:4388 / 4393
页数:6
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