PLASMA METALORGANIC CHEMICAL VAPOR-DEPOSITION OF INDIUM OXIDE THIN-FILMS

被引：46

作者：

MARUYAMA, T

KITAMURA, T

机构：

来源：

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 2-LETTERS & EXPRESS LETTERS | 1989年 / 28卷 / 07期

关键词：

D O I：

10.1143/JJAP.28.L1096

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

页码：L1096 / L1097

页数：2

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共 3 条

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