CONTROL CONFIGURATION FOR THE ELECTRON-BEAM LITHOGRAPHIC SYSTEM EL-3

被引：2

作者：

CRAFT, J

WILLIAMS, M

DEFIGLIO, G

PAVICK, J

机构：

来源：

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY | 1981年 / 19卷 / 04期

关键词：

D O I：

10.1116/1.571204

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

页码：979 / 982

页数：4

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共 3 条

[1]

MICHAIL MS, 1981, J VAC SCI T, V19

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