SPECTRAL SENSITIVITY OF RESIST BY X-RAY EXCITED ION MASS ANALYSIS

被引：3

作者：

MOCHIJI, K

KIMURA, T

OBAYASHI, H

机构：

来源：

关键词：

D O I：

10.1063/1.95642

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

页码：387 / 389

页数：3

共 5 条

[1] VAPOR DEVELOPMENT OF POLY(OLEFIN SULFONE) RESISTS [J].

BOWDEN, MJ ;

THOMPSON, LF .

BROWN, FC ;

BACHRACH, RZ ;

LIEN, N .

NUCLEAR INSTRUMENTS & METHODS, 1978, 152 (01) :73-79

EBERHARDT, W ;

SHAM, TK ;

CARR, R ;

KRUMMACHER, S ;

STRONGIN, M ;

WENG, SL ;

WESNER, D .

GREENEICH, JS .

MOCHIJI, K ;

KIMURA, T ;

OBAYASHI, H ;

YANAGIHARA, M .