METHOD OF FORMATION OF THIN OXIDE-FILMS ON SILICON IN A MICROWAVE MAGNETOACTIVE OXYGEN PLASMA

被引：19

作者：

BARDOS, L

LONCAR, G

STOLL, I

MUSIL, J

ZACEK, F

机构：

[1] CZECH TECH UNIV, FAC NUCL SCI & PHYS ENGN, BREHOVA 7, 11519 PRAGUE, CZECHOSLOVAKIA

[2] CZECHOSLOVAK ACAD SCI, INST PLASMA PHYS, NADEMLYNSKA 600, 18069 PRAGUE, CZECHOSLOVAKIA

来源：

关键词：

D O I：

10.1088/0022-3727/8/16/002

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

页码：L195 / L197

页数：3