DECREASE IN VOID GROWTH-RATE BY INTERSTITIAL TRAPPING

被引：26

作者：

KOEHLER, JS

机构：

[1] UNIV ILLINOIS,MAT RES LAB,URBANA,IL 61801

[2] UNIV ILLINOIS,DEPT PHYS,URBANA,IL 61801

来源：

JOURNAL OF APPLIED PHYSICS | 1975年 / 46卷 / 06期

关键词：

D O I：

10.1063/1.321911

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

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页码：2423 / 2428

页数：6

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共 13 条

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