RESIST CONTRAST ENHANCEMENT IN HIGH-RESOLUTION ELECTRON-BEAM LITHOGRAPHY

被引：2

作者：

CHIONG, KG ^{[1
]}

ROTHWELL, MB ^{[1
]}

WIND, S ^{[1
]}

BUCCHIGNANO, J ^{[1
]}

HOHN, FJ ^{[1
]}

KVITEK, R ^{[1
]}

机构：

[1] IBM CORP,DIV GEN TECHNOL,HOPEWELL JUNCTION,NY 12533

来源：

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B | 1989年 / 7卷 / 06期

关键词：

D O I：

10.1116/1.584455

中图分类号：

TM [电工技术]; TN [电子技术、通信技术];

学科分类号：

0808 ; 0809 ;

摘要：

引用

页码：1771 / 1777

页数：7

共 19 条

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