DOUBLE EXPOSURE STABILIZATION OF POSITIVE PHOTORESIST

被引：7

作者：

YANAZAWA, H

HASEGAWA, N

DOUTA, K

HASHIMOTO, N

机构：

来源：

关键词：

D O I：

10.1002/app.1985.070300208

中图分类号：

O63 [高分子化学（高聚物）];

学科分类号：

070305 ; 080501 ; 081704 ;

摘要：

引用

页码：547 / 555

页数：9

相关论文

共 4 条

[1] Adsorption of gases in multimolecular layers [J].

Brunauer, S ;

Emmett, PH ;

Teller, E .

[2] UV HARDENING OF PHOTO-BEAM AND ELECTRON-BEAM RESIST PATTERNS [J].

HIRAOKA, H ;

PACANSKY, J .

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY, 1981, 19 (04) :1132-1135

[3]

NAKAMOTO K, 1978, INFRARED SPECTRA INO, P26

[4]

THOMAS GRM, 1979, P SOC PHOTOOPT INSTR, V174, P15