UV HARDENING OF PHOTO-BEAM AND ELECTRON-BEAM RESIST PATTERNS

被引：32

作者：

HIRAOKA, H

PACANSKY, J

机构：

来源：

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY | 1981年 / 19卷 / 04期

关键词：

D O I：

10.1116/1.571183

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

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页码：1132 / 1135

页数：4

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共 5 条

[1] CALVERT JG, 1967, PHOTOCHEMISTRY, P691
[2] HATZAKIS M, 1978, ELECTROCHEMICAL SOC, V78, P927
[3] MA W, 1979, P IEDM
[4] MA W, UNPUBLISHED
[5] PHOTO-CHEMICAL DECOMPOSITION MECHANISMS FOR AZ-TYPE PHOTORESISTS
PACANSKY, J
LYERLA, JR
[J]. IBM JOURNAL OF RESEARCH AND DEVELOPMENT, 1979, 23 (01) : 42 - 55