STUDY OF LIGHT-INDUCED CREATION OF DEFECTS IN A-SI-H BY MEANS OF SINGLE AND DUAL-BEAM PHOTOCONDUCTIVITY

被引:104
作者
HAN, D [1 ]
FRITZSCHE, H [1 ]
机构
[1] UNIV CHICAGO,JAMES FRANCK INST,CHICAGO,IL 60637
关键词
D O I
10.1016/0022-3093(83)90604-X
中图分类号
TQ174 [陶瓷工业]; TB3 [工程材料学];
学科分类号
0805 ; 080502 ;
摘要
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页数:4
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