PREPARATION OF DOPED AMORPHOUS-SILICON FILMS BY IONIZED-CLUSTER BEAM DEPOSITION

被引：18

作者：

YAMADA, I

NAGAI, I

HORIE, M

TAKAGI, T

机构：

来源：

关键词：

D O I：

10.1063/1.332141

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

页码：1583 / 1587

页数：5

共 7 条

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