HEAVY-METAL CONTAMINATION FROM RESISTS DURING PLASMA STRIPPING

被引：36

作者：

FUJIMURA, S

YANO, H

机构：

[1] Fujitsu Ltd, Kawasaki, Jpn, Fujitsu Ltd, Kawasaki, Jpn

来源：

关键词：

D O I：

10.1149/1.2095922

中图分类号：

O646 [电化学、电解、磁化学];

学科分类号：

081704 ;

摘要：

SEMICONDUCTOR DEVICES

引用

页码：1195 / 1201

页数：7

共 19 条

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