LITHOGRAPHIC EVALUATION OF AN ORTHO-NITROBENZYL ESTER BASED DEEP UV RESIST SYSTEM

被引：35

作者：

WILKINS, CW

REICHMANIS, E

CHANDROSS, EA

机构：

来源：

JOURNAL OF THE ELECTROCHEMICAL SOCIETY | 1982年 / 129卷 / 11期

关键词：

D O I：

10.1149/1.2123604

中图分类号：

O646 [电化学、电解、磁化学];

学科分类号：

081704 ;

摘要：

引用

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页码：2552 / 2555

页数：4

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[1]

AMIT B, 1974, ISRAEL J CHEM, V12, P103

[2]

BARKER AR, COMMUNICATION

[3]

ONG E, P KODAK MICROELECTRO

[4] A NOVEL-APPROACH TO ORTHO-NITROBENZYL PHOTOCHEMISTRY FOR RESISTS [J].

REICHMANIS, E ;

WILKINS, CW ;

CHANDROSS, EA .

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY, 1981, 19 (04) :1338-1342