DETECTION OF SIO2 IONS FROM SIO2-SI INTERFACE BY MEANS OF SIMS

被引：6

作者：

NAKAMURA, K

HIROSE, H

SHIBATA, A

TAMURA, H

机构：

[1] HITACHI LTD,NAKA WORKS,KATSUTA,IBARAKI,JAPAN

[2] HITACHI LTD,CENT RES LAB,KOKUBUNJI,TOKYO,JAPAN

来源：

关键词：

D O I：

10.1143/JJAP.16.1307

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

页码：1307 / 1311

页数：5

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共 5 条

BENNINGHOVEN, A .

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